早稲田大学 · 理工学術院 · 教授(任期付)
志村 考功
Shimura Takayoshi
别名: シムラ タカヨシ / TAKAYOSHI Shimura / 志村 孝功 / SHIMURA Takayoshi
Research fields
研究领域
按日本文部科学省 科研費審査区分表 自动归类。KAKEN 项目数越多,代表教授在该领域投入越深。第一个为「主业」。
- 主业工学大区分
- 応用物性・結晶工学小区分
- 応用物理学・工学基礎中区分
- 機械工学中区分
- 薄膜・表面界面物性細目
- 量子ビーム科学小区分
- 電子・電気材料工学細目
- 応用物理学大区分
- 理工系大区分
- 生産工学・加工学細目
- 総合工学大区分
- 総合理工中区分
- 航空宇宙工学細目
- 表面界面物性小区分
- 設計工学・機械要素・トライボロジー小区分
- 電子デバイス・電子機器細目
- 電気電子工学中区分
Research keywords
这位教授在研究什么
基于他/她公开的科研项目与论文自动提取的研究关键词,出现频次越高显示越大。
KAKEN grants
科研项目(近期在前)
KAKENHI 是日本科研最权威的经费系统,基金层级越高(S > A > B)越能反映影响力。
- 2024KAKENHI-基盤研究(B)シリコンフォトニクスゲルマニウムレーザースズゾーンメルトゲルマニウムスズ
- 2022KAKENHI-挑戦的研究(萌芽)
屈折・回折・干渉を用いないエックス(ガンマ)線フーリエイメージング法の実証 ↗
X線イメージングフレネルゾーン開口コースティックネットワーク開口ガンマ線放射線フーリエイメージングΓ線 - 2018KAKENHI-挑戦的研究(萌芽)
構造化X線光源による高感度・高分解能透過型X線撮像法の実証 ↗
X線イメージング光源技術位相イメージング元素識別量子ビームX線非破壊検査 - 2016KAKENHI-新学術領域研究(研究領域提案型)
SOIピクセル検出器による自己像直接検出型タルボ・ロー干渉計の高度化 ↗
X線放射線検出器位相イメージング干渉計微細加工プロセス微細加工プロジェクト - 2015KAKENHI-挑戦的萌芽研究
埋め込みX線ターゲットを用いた超解像X線撮像法の実証 ↗
X線イメージング超解像画像回復計算X線光源技術量子ビーム - 2015KAKENHI-挑戦的萌芽研究
ビーム励起界面反応によるSiC-MOS界面欠陥の崩壊と選択修復 ↗
電子・電気材料パワーエレクトロニクス - 2015KAKENHI-基盤研究(B)
局所液相エピタキシャル成長によるGeSnワイヤの形成とその光電子デバイス応用 ↗
電気・電子材料作成・評価技術エピタキシャル成長半導体ゲルマニウムシリコンフォトニクス電子・電気材料結晶工学 - 2013KAKENHI-挑戦的萌芽研究
ビーム励起界面反応によるSiCパワーデバイスへテロ界面改質技術 ↗
電子・電気材料パワーエレクトロニクス - 2013KAKENHI-基盤研究(A)
相界面反応制御技術を基軸とした混晶材料の設計と新機能発現 ↗
界面物性界面反応Ⅳ族混晶半導体ゲルマニウム光電子融合デバイス表面・界面物性 - 2012KAKENHI-基盤研究(B)
チャネルラストプロセスによる歪み制御縦型Geトランジスタの作製と電気特性評価 ↗
電気・電子材料作成・評価技術エピタキシャル成長半導体ゲルマニウム格子歪み
CiNii papers
近期论文 / 文章
CiNii 覆盖日本国内期刊、论文集、图书章节。只保留最近的 10 条。
- 2013生産と技術
埋め込みX線ターゲットを用いた小型タルボ・ロー干渉計によるX線位相イメージング ↗
- 2013応用物理学会学術講演会講演予稿集
Diffusivity of Mobile Ions Inherent to Thermal SiO<sub>2</sub>/SiC Structures in Deposited SiO<sub>2</sub> Gate Dielectrics ↗
- 2010Appl.Phys.Express
Fabrication of Fully Relaxed SiGe Layers with High Ge Concentration on Silicon-on-Insulator Wafers by Rapid Melt Growth ↗
- 2010The Proceedings of International workshop on Active-matrix flatpanel displays and devices
Fabrication of High-Quality GOI and SGOI Structures by Rapid Melt Growth Method ↗
- 2008電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
Ge微結晶核を用いた多結晶Si薄膜形成 ↗
- 2005Thin Solid Films 476-1
Comparison of ordered structure in buried oxide layers in high-dose, low-dose, and internal- thermal-oxidation separation-by-implanted-oxygen wafers ↗
- 2001精密工学会大会学術講演会講演論文集
Si(111)面上におけるSi_<1-X>Ge_X薄膜のMBE成長過程 ↗
- 1998日本結晶学会誌
SOIウェーハの埋め込み酸化層からのX線散乱 ↗
- 1997放射光 : 日本放射光学会誌 = Journal of the Japanese Society for Synchrotron Radiation Research / 日本放射光学会 編
シリコン熱酸化膜中のSiO2結晶相 ↗
- 1996日本結晶学会誌
微斜面Si (111) 上の熱酸化膜中の結晶相 ↗
How to assess fit
如何判断这位教授是否适合你
数据库的数据告诉你「这位教授在做什么」;能不能适合你,需要你自己对照以下几点判断。
- 关键词对齐
上面的关键词云里,有没有你研究计划书中反复出现的词?1-2 个重合是起点,3+ 个说明方向接近。
- 近期项目对应
看 KAKEN 项目的时间 — 近 2 年还有活跃项目说明研究室还在跑;只看项目名也大致能判断和你的问题是否相关。
- 不要只看学校名气
方向匹配度 > 学校排名。一位方向对口、还在活跃招生的副教授,往往比一位名气大但快退休的正教授更值得考虑。
- 留意招生信号
查一下该教授的研究室官网,看 OB/OG 名录里有没有中国 / 韩国 / 东南亚学生 — 这是「是否招留学生」最直接的信号。
ℹ️ 后期会加入基于 LLM 的中文画像(例如:「这位教授的研究风格偏...,适合什么样的申请者」),目前先用数据库公开字段 + 编辑建议替代。
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