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研究キーワード陽極酸化プロセス・耐放射線性デバイス・マイクロテクノロジー・SOI・シングルイベント・照射誘起電流・照射効果

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• 電界結合型非接触スリップリングの設計及び試作2022 · 電子情報通信学会論文誌B, 2022年03月
• 微細SOIデバイスの重イオン照射誘起寄生バイポーラ効果抑制2017 · 日本信頼性学会誌, 2017年05月
• 半導体デバイスに対する宇宙放射線照射効果2014 · 日本信頼性学会誌, 2014年11月
• MOS構造の重イオン照射誘起電流およびトータルドーズ効果2012 · 電子情報通信学会論文誌C, 2012年09月

• 電界結合による非接触スリップリングの研究2018
• 電界結合による非接触スリップリングの研究2018
• マイクロ機械／知能エレクトロニクス集積化技術の総合研究2004
• マイクロテクノロジーによるインテリジェントデバイスの開発2002

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