成蹊大学 · 理工学部 · 教授

研究キーワードスパッタリング・薄膜物性・薄膜プロセス

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• HfN and Hf Spindt-Type FEA Fabrication Using Triode Reactive High Power Pulsed Magnetron Sputtering Hiromasa Murata, Shun Kondo, Md. Suruz Mian, Katsuhisa Murakami, Takeo Nakano, Masayoshi Nagao 2024 37th International Vacuum Nanoelectronics Conference (IVNC) 1-2 2024年7月15日2024 · MISC
• Coloring and Bleaching Properties of 500–1000 nm‐Thick Electrochromic Tungsten Oxide Films Deposited by Reactive Direct Current Magnetron Sputtering Md. Suruz Mian, Riko Yagi, Kei Oya, Takeo Nakano physica status solidi (a) 2100646-2100646 2021年12月23日 査読有り2021 · 論文
• 第9回真空・表面科学アジア・オーストラリア会議（VASSCAA-9），およびVASSCAA国際運営委員会とIUVSTA理事会の報告 中野武雄, 小森文夫, 福谷克之, 谷本育律 表面と真空 62(1) 48-50 2019年1月10日2019 · MISC
• 大電力パルススパッタ法によるスピント型陰極作製における放電ガス(アルゴン、クリプトン)の効果 谷口日向, 大家 渓, 中野武雄, 長尾昌善, 大崎 壽, 村上勝久 電子情報通信学会技術研究報告 118(263) 5-8 2018年10月2018 · MISC

• デュアルターゲット型大電力パルススパッタによるプラズマ電位と薄膜構造の制御 文部科学省 基盤研究(C) 2017年4月 - 2020年3月 中野 武雄2017 · 共同研究・競争的資金等の研究課題
• 大電力パルススパッタにおけるパルスオフ期間のターゲット電位を用いた薄膜構造制御 文部科学省 科学研究費補助金(基盤研究(C)) 2012年 - 2014年 中野 武雄2012 · 共同研究・競争的資金等の研究課題
• 酸素フリーな金属窒化物の反応性スパッタ製膜過程の理解と電気物性への酸素混入の効果 文部科学省 科学研究費補助金(基盤研究(C)) 2009年 - 2011年 馬場 茂, 中野 武雄2009 · 共同研究・競争的資金等の研究課題
• スパッタ粒子とガスの輸送過程を考慮した反応性スパッタプロセスモデルの構築 文部科学省 科学研究費補助金(基盤研究(C)) 2007年 - 2009年 中野 武雄2007 · 共同研究・競争的資金等の研究課題

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