東京科学大学 · 工学院 · 助教

研究关键词EUV Lithography・Mask 3D Effects・Computational Lithography・FPGA Acceleration・Sparse Convolutional Neural Networks・Channel Routing Algorithms・Reinforcement Learning for Optical Networks・Quantum Computer Simulation

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• EUV M3D parameter prediction of curvilinear mask patterns by convolutional neural networks2026 · DTCO and Computational Patterning V 52 - 52 2026年4月
• STCC formula including polarization and M3D effects in high-NA EUV lithography2026 · Optical and EUV Nanolithography XXXIX 15 - 15 2026年4月
• Source-position-dependent transmission cross coefficient formula including polarization and mask three-dimensional effects in high-numerical-aperture extreme ultraviolet lithography2026 · Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 25 ( 03 ) 2026年5月
• A Novel Data Representation Towards Efficient FPGA-based Quantum Computer Simulation.2025 · ISMVL 117 - 122 2025年

• ハイブリッド接合を用いた3次元ICにおける低コスト化を実現する高密度配線手法の研究2026 · 研究課題/領域番号： 26K21189 2026年4月 - 2029年3月
• ハイブリッド接合を用いた3次元チップにおける配線最適化による低コスト化手法の研究2025 · 2025年12月 - 2026年3月
• 極紫外線露光のための高速シミュレーション技術開発およびマスクデータベース構築2025 · 研究課題/領域番号： 25K03090 2025年4月 - 2029年3月
• 障害物が規則的に並ぶ配線層における効率的な配線手法の開発2025 · 研究課題/領域番号： 25K24365 2025年7月 - 2027年3月

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