Ehime University · Graduate School of Science and Engineering

Research keywordshafnium silicide・silicon surfaces・surface oxidation・oxygen adsorption・Auger electron spectroscopy・hydrogen adsorption

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• Early nitridation and oxynitridation stages of hafnium-adsorbed Si(111) surfaces using supersonic nitrogen and nitric oxide molecular beams2026
• オージェ電子－光電子コインシデンス分光によるシリコン単結晶表面および酸化シリコン超薄膜の局所電子状態の研究2014 · ぶんせき 7 ( 7 ) 374 - 380 2014年
• Surface-site-selective study of valence electronic states of a clean Si(111)-7×7 surface using Si-L23VV Auger electron and Si-2p photoelectron coincidence measurements2011 · American Physical Society, Phys. Rev. B
• 高分解能オージェ電子-光電子コインシデンス分光、電子-イオンコインシデンス分光兼用装置の開発

• ケイ酸Hf単層を挟んだHfO2/Si界面のSi基板酸化抑制：広い圧力範囲での効果2026
• 2025 / 後学期 / 量子化学Ⅱ2025 · 理学部 / 専門教育科目
• 2025 / 前学期 / 卒業研究Ⅱ2025 · 理学部 / 専門教育科目
• 2025 / 前学期 / 科学研究倫理2025 · 理学部 / 専門教育科目

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