Osaka University · Institute of Scientific and Industrial Research

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• Exploration of alternative resist materials for EUV lithography2025 · Vol. 64 No. 3 p. 03SP43-03SP43 2025年3月1日 研究論文（学術雑誌）
• Single-component silicon-based patterning materials for EUV lithography2023 · Proc. SPIE Vol. Advances in Patterning Materials and Processes XL No. 12498 2023年5月1日 研究論文（国際会議プロシーディングス）
• Photoresist stochastic defect generation depending on alkyl chain length and concentration of tetraalkylammonium hydroxide in alkali aqueous developer2023 · Japanese Journal of Applied Physics Vol. 62 No. SG 2023年2月17日 研究論文（学術雑誌）
• Stochastic defect generation depending on tetraalkylhydroxide aqueous developers in extreme ultraviolet lithography2023 · Japanese Journal of Applied Physics Vol. 62 No. 1 2023年1月1日 研究論文（学術雑誌）

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