Osaka University · Faculty of Engineering / Graduate School of Engineering · 教授

Research keywords応用光学・薄膜工学・大気圧プラズマ・表面・界面物性・量子光工学

Research fieldsEngineering・Production engineering/Processing studies・Applied materials science/Crystal engineering・Applied physics・Materials engineering and related fields・Mechanical engineering・Science and Engineering・Electronic materials/Electric materials

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• Formation of Heterostructured Silicon Thick Films in Atmospheric-Pressure Very High-Frequency Plasma for Possible Application to Lithium Ion Battery Anode2025 · PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING Vol. 45 No. 4 p. 1233-1246 2025年7月 研究論文（学術雑誌）
• Atmospheric-pressure plasma-induced formation of heterostructured thick silicon films toward high energy density lithium-ion battery anodes2025 · JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS Vol. 58 No. 38 2025年9月22日 研究論文（学術雑誌）
• High-Rate Preparation of Fluorocarbon Film Using Tetrafluoromethane Gas and a Graphite Electrode by High-Pressure (100 Torr) Plasma2025 · ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY Vol. 14 No. 2 2025年2月1日 研究論文（学術雑誌）
• Formation of Porous Silicon Oxides for Single-Layer Anti-reflection Coatings on Transparent Materials Using Atmospheric-Pressure Very High-Frequency Plasma2025 · PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING Vol. 45 No. 4 p. 1247-1260 2025年7月 研究論文（学術雑誌）

• 高密度水素プラズマを用いた赤外無反射ゲルマニウム表面の創成
• インライン対応シリコン低温選択エビ技術の開発
• 大気圧水素プラズマと固体原料を用いたⅣ族混晶半導体薄膜の高能率形成法の開発
• 大気圧プラズマCVD法によるTFT用多結晶Siの作製に関する研究

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