Nagoya University · Faculty of Engineering / Graduate School of Engineering · 教授

Research keywordsSi系量子ドット・Si量子ドット・自己組織化・電荷捕獲・Kelvin force microscopy・容量-電圧特性・Niシリサイド・Ge薄膜・SiO2/GaN界面

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• Crystalline phase transition of ultra-thin Ni-silicide film during SiH4 exposure2025 · JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 64 巻 ( 2 ) 2025年2月
• Study of dot size effect on electron emission from Si-QDs multiple-stacked structures2024 · JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 63 巻 ( 9 ) 2024年9月
• Self-assembling formation of Si-QDs on SiO2 line patterns2024 · JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 63 巻 ( 3 ) 2024年3月
• Formation of one-dimensionally self-aligned Si-QDs and their local electron discharging properties2024 · JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 63 巻 ( 4 ) 2024年4月

• シリコン酸化膜に覆われたゲルマネンを用いた超高速エレクトロニクスの開発2020 · 研究課題/研究課題番号： 20K21142 2020年7月 - 2022年3月
• ナノドットの超高密度規則配列と電子・スピン結合制御2019 · 研究課題/研究課題番号： 18KK0409 2019年 - 2021年
• Si-Ge系スーパーアトムの内部ポテンシャル変調による量子機能材料創成2019 · 研究課題/研究課題番号： 19H00762 2019年4月 - 2023年3月
• 価電子制御シリコン量子ドットのドット間結合制御による熱起電力創出2017 · 研究課題/研究課題番号： 17K18877 2017年6月 - 2019年3月

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