九州工業大学 · 工学部 / 工学研究院

研究关键词diamond thin films・atomic hydrogen surface cleaning・hot wire chemical vapor deposition・SiCN films・interconnect cleaning・oxide reduction on metals・film corrosion resistance

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• A novel copper interconnection cleaning by atomic hydrogen using diluted hydrogen gas2009 · Solid state Phenomena 145-146 389 - 392 2009年04月
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