名古屋大学 · 未来材料・システム研究所 · 教授

研究关键词monolayer MoS2 epitaxy・van der Waals epitaxy・atomic-resolution electron microscopy・InN-GaN interfaces・Ga2O3 doping・GaN MOSFET interfaces・wurtzite AlPyN1-y・Mg ion implantation in GaN・2D magnesium-intercalated GaN

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• ワイドギャップ半導体MOS界面欠陥の正体の横断的解明2020 · 研究課題/研究課題番号： 20H00340 2020年4月 - 2025年3月

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